聚焦离子束显微镜(FIB)

一、什么是 FIB

聚焦离子束显微镜是半导体高端微纳加工与表征设备,兼具精准切割剖层 + 微观成像双重功能,可对芯片内部做定点微区剥离、切片制样,直观观测内部截面结构,是深层失效分析核心设备。 上海北测芯源可提供专业 FIB 制样与观测分析服务。

二、核心应用

  • 芯片定点剖切,查看内部电路、晶圆层间结构
  • 金属走线、通孔、介质层微观缺陷观测
  • 短路、断路、烧毁点位精准剖层溯源
  • 超薄样品制备,适配后续电镜分析
  • 微区修复、线路修改、工艺结构解析

三、适用对象

集成电路、车载芯片、功率器件、射频芯片、高端封装器件、晶圆裸片等

四、应用场景

深层失效剖析、芯片逆向结构分析、工艺异常排查、微观故障定位、研发结构验证

五、服务优势

微米至纳米级精准定位,定点无损剖切,制样精度高,成像清晰,快速深挖内部失效根源,出具专业分析报告。